全自動晶圓去蠟清洗機用于清洗已劃片完成的工件，對切割道進行清洗，以便后續(xù)UV解膠工作。晶圓清洗機的主要工藝是水清洗、二流體清洗、甩干，其中不同種類工件使用不同的**、壓力等等。本圖紙為成熟產品的圖紙，已在市面上各大公司使用，大部分為國產元器件，對比國外清洗機不僅具有相當強的優(yōu)勢，且在使用上和工藝上不落下風。

全自動晶圓去蠟清洗機化學清洗槽（也叫酸槽/化學槽），主要有HF，H2SO4，H2O2，去蠟腐蝕設備，HCL等酸堿液體按一定比例配置，目的是為了去除雜質，去離子，去原子，后還有DI清洗。IPA是，就是工業(yè)酒精，是用來clean機臺或parts的，是為了減少partical的。

全自動晶圓去蠟清洗機采用等離子處理的優(yōu)點：

1，  經等離子處理后可增加材料表面張力、增強粘接強度，從而**產品質量；

2，  可替代熱融膠，使用冷粘膠或低牌號普通粘合劑來保證粘結質量。減少膠水使用量，有效降低生產成本；

3，  采用等離子工藝，去蠟清洗設備，可使UV上光、PP覆膜等難粘合材料使用水性膠水都粘得很牢。并淘汰機械打磨、打孔等工序，不產生灰塵、廢屑，符合藥品、食品等包裝衛(wèi)生安全要求，有利于環(huán)保；

4，  等離子處理工藝不會在被處理材料表面留下任何痕跡，肉眼分辨不出來有被處理加工；

5，等離子因為是電離氣體，去蠟清洗機，沒有廢氣廢水等污染物排放，安全環(huán)保。

全自動晶圓去蠟清洗機特點:

1.設備清洗方式采用超聲波清洗+旋轉助洗方式，去蠟，可有效清洗產品的盲孔難洗部位，達到預期效果

2.整機采用PLC控制，自動化程度高，清洗干燥過程中無需人工操作，有效減低了勞動強度，節(jié)省了人力資源

3.可設定多套清洗工藝，滿足不同產品的清洗要求

4. 全自動晶圓去蠟清洗機主要工藝流程（配旋轉洗蘭）： 洗劑噴淋→洗劑超聲清洗→超聲漂洗→鼓泡漂洗→熱漂洗→離心拋干+熱風攪拌→熱風循環(huán)干燥→真空干燥→靜電消